Germanium oxide (GeO2) sputtering target CAS 1310-53-8

Germanium oxide (GeO2) sputtering target from TYR, CAS# 1310-53-8

Purity 99.99%

Shape: Discs, disks, step disk, delta, plate, sheets or made per drawing

Diameter: 355.6mm (14") max.

Single piece Size: Length: <500mm, Width: <250mm, Thickness: >1mm, if larger size than this, we can do it as Tiles joint by 45 degree or 90 degree

Made sputtering targets method: hot pressing (HP), hot/cold isostatic pressing (HIP, CIP), and vacuum melting, vacuum sintering

Germanium dioxide, GeO2 is the inorganic compound, Germanium dioxide can be prepared in both 

crystalline and amorphous forms,  An amorphous (glassy) form of GeO2 is similar to fused si, The

 hexagonal (d = 4.29 g/cm3) form of germanium dioxide is more soluble than the rutile (d = 6.27 g/cm3) 

form.

Uses: 

The refractive index (1.7) of germanium dioxide and optical dispersion properties makes it useful as an

 optical material for wide angle lenses and in optical microscope objective lenses. 

It is transparent in infrared.

A mixture of silicon dioxide and germanium dioxide ("silica-germania") is used as an optical material for optical fibers and optical waveguides. Controlling the ratio of

 the elements allows precise control of refractive index. Silica-germania glasses have lower viscosity and higher refractive index than pure silica. 

Germania replaced titania as the silica dopant for silica fiber, eliminating the need for subsequent heat 

treatment, which made the fibers brittle.

Germanium dioxide is also used as a catalyst in production of polyethylene terephthalate resin, and for

 production of other germanium compounds. It is used as a feedstock for production of some phosphors

 and semiconductor materials.

Furthermore germanium dioxide is used in algaculture as an inhibitor of unwanted diatom growth in algal

 cultures since a contamination with the comparatively fast growing diatoms often inhibits the growth

 of or outcompetes the original algae strains. 

We also supply other Oxide Ceramic sputtering target :

Aluminum  Oxide , Al2O3             Antimony  Oxide , Sb2O3      

Antimony:Tin Dioxide , Sb:SnO, ATO    Barium Titanate , BaTiO3    

Bismuth Oxide , Bi2O3               Cerium oxide , CeO2        

Cerium fluoride , CeF3               Chromium Oxide ,CrO, Cr2O3     

Copper Oxide , CuO                 Dysprosium Oxide , Dy2O3    

Erbium Oxide , Er2O3               Eur  Oxide , Eu2O3 

Gadolinium Oxide , Gd2O3           Hafnium Oxide, HfO2      

Holmium Oxide , Ho2O3             Indium Tin Oxide, In2O3-SnO2, ITO       

Indium Zinc Oxide, In2O3-ZnO, IZO   Indium Oxide , In2O3       

Indium Gallium Zinc Oxide, IGZO , In2O3+Ga2O3+ZnO        

Iron Oxide , Fe2O3, Fe3O4           Lanthanum Aluminate , LaAl2O3,     

LSMO ,  La0.67Sr0.33MnO3       

Lead  Zirconate , PbZrO3            Lead Oxide, PbO    

Lead Titanate , PbTiO3                Lead Zirconate , PbZrO3       

Lead Zirconate-Titanate, PZT , PbZrO3 + PbTiO3    

Lutetium Oxide , Lu2O3  

Magnesium Oxide , MgO              Molybdenum Oxide , MoO  

Molybdenum Oxide , MoO3,            Neodymium Oxide , Nd2O3,      

Nickel Oxide, NiO                    Niobium Pentoxide , Nb2O5, Nb2Ox   

Neodymium Oxide , Nd2O3,            Nickel Oxide, NiO     

Praseodymium Oxide , Pr6O11,          Samarium Oxide , Sm2O3      

Scandium Oxide , Sc2O3                Silicon Monoxide , SiO  

Silicon Dioxide , SiO2                  Strontium Titanate , SrTiO3,      

Tantalum Pentoxide , Ta2O5,            Terbium Oxide , Tb4O7    

Thulium Oxide , Tm2O3               Titanium Oxide , Ti2O3, Ti3O5 

Titanium Monoxide , TiO                Titanium Dioxide , TiO2  

Tungsten Oxide , WO3, WO2.9, WO3 doped Li2O   

Vanadium Pentoxide , V2O5, VO2        Yttrium Oxide , Y2O3   

Ytterbium Oxide , Yb2O3       

Zinc Oxide , ZnO                     Zinc Aluminum Oxide, AZO , Al2O3-ZnO, ZnO-Al

Ga2O3 doped ZnO , GZO               Zirconium oxide , ZrO2      

ZrO2 - Y2O3 stabilized , YSZ,           ZrO2 + SiO2