Tatanlum silicide (Ta3Si5, TaSi2) ceramic sputtering target

Tantalum Silicide (Ta5Si2, TaSi2, Ta3Si5 ) Ceramic Sputtering Target

TYR material supply all kinds of ceramic sputtering target , compound semiconductor target include Oxide sputtering target , Fluoride sputtering target , Boride sputtering target , Carbide sputtering target , Nitride sputtering target , Sulfide sputtering target , Selenide sputtering target , Silicide sputtering target , Telluride sputtering target , Antimonide sputtering target , Arsenide sputtering target ...... 

The available made method include hot pressing , HP, , hot/cold isostatic pressing , HIP, CIP, , and vacuum melting, vacuum sintering

Spec.: Diameter: 355.6mm , 14",  max. Single piece Size: Length: <254mm, Width: <127mm, Thickness: >1mm, if larger size than this, we can do it as tiles joint by 45 degree or 90 degree.

Shape:  discs, plate, rod, tube, sheet, Delta, Rotatable and per drawing

TYR will base on each different material to select the best way to made it and sure the finish ceramic sputtering target  to be best. 

Silicide Ceramic sputtering target 

Chromium Silicide , CrSi2 target                    Cobalt Silicide , Co3Si target       

Hafnium Silicide , HfSi2 target                      Molybdenum silicide, MoSi2, Mo5Si3 target       

Nickel Silicide , NiSi target                         Niobium Silicide , Nb5Si3, NbSi2 target       

Tantalum Silicide , Ta5Si3, TaSi2 target                Titanium silicide, Ti5Si3, TiSi2 target       

Tungsten Silicide , WSi2 target                       Vanadium silicide , V3Si, VSi2 target       

Zirconium Silicide , ZrSi2 target